太阳能电池片
工艺原理：将工艺气体通过射频电磁波电离，电离后的气体原子团在衬底上自组装形成纳米级薄膜。
作用:：形成 非/微晶硅和氮化硅等纳米级薄膜，用作保护层和非晶薄膜导电层等。
昶火微科开发的PECVD属于低温工艺，主供大尺寸。
| 有机分配工艺腔体比例 | 提高了工艺腔室利用率 |
| 大面积镀膜技术应用 | 工艺腔室采用液晶面板大面积设计，保持镀膜均匀一致性（2%）的情况下，面积可达10平方米 |
| 快速工艺控制系统 | 快速稳定工艺温度，气流，和等离子体系统 |
| 快速稳定射频电源控制系统 | 能最短时间实现射频放电稳定 |
| 免清洗载板 | 免清洗且经济 |
| 无接触传输系统 | 能适应微徕130um以下超薄硅片和超大硅片、玻璃并保证无污染 |
| 已实现90%以上不见国产化 | 成本、技术可控 |
